Empresa china solicita patente para equipo de litografía de chips
La compañía china Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), presentó recientemente una solicitud de patente para equipo de litografía, maquinaria esencial en la fabricación de semiconductores. La acción representa un movimiento importante hacia la autosuficiencia del gigante asiático en la industria de los chips, por lo que esta iniciativa es crucial para evadir las medidas coercitivas unilaterales de Estados Unidos que pretenden despojar a ese país del acceso a estos dispositivos electrónicos.
Según el portal South China Morning Post (SCMP), la patente para «generadores de radiación ultravioleta extrema (EUV) y equipos de litografía» fue solicitada en marzo de 2023, pero dicha información solo se reveló durante la semana pasada. El documento permanece en revisión por parte de la Administración Nacional de Propiedad Intelectual de China.
«Los avanzados escáneres de ultravioleta extrema se consideran necesarios para la producción masiva de semiconductores de menos de siete nanómetros, ya que proporcionan mejores rendimientos de producción, en términos del porcentaje de elementos no defectuosos elaborados en su fabricación», según informó el SCMP.
Por su parte, la empresa Advanced Semiconductor Materials Lithography (ASML), con sede en los Países Bajos, ostenta actualmente el monopolio en la fabricación en masa de equipos de litografía EUV, pero la exportación de sus productos a China fue prohibida en 2019 por las sanciones de Washington.
Fuente: RT
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